A打磨和抛光磁体和衔铁接触面
B使磁体和衔铁接触面对位准确
C使衔铁与根帽结合时与水平面平行
D使衔铁与磁体的接触面完全暴露
E使衔铁与磁体的接触面紧密接触
缓冲器底座与基础的接触面必须平整结实，平整时应该用和底座接触面不大于12面积的垫铁，不允许用锯条等小块整片。
A、对
B、错
在|45烤瓷冠与|6金属冠焊接中，对焊接面的要求哪项是错误的（）。
A、接触面要保持清洁
B、焊接处成面接触
C、接触面高度抛光
D、接触面要粗糙
E、接触面的缝隙为0.1～0.15mm
为保证磁性附着体的固位力，下列措施不恰当的是（ ）。
A、打磨和抛光磁体和衔铁接触面
B、使磁体和衔铁接触面对位准确
C、使衔铁与根帽结合时与水平面平行
D、使衔铁与磁体的接触面完全暴露
E、使衔铁与磁体的接触面紧密接触
光滑接触面的约束反力的方向是（）。
A、沿着接触面公切线方向、指向物体
B、沿着接触面公切线方向、离开物体
C、沿着接触面公法线方向、指向物体
D、沿着接触面公法线方向、离开物体
A打磨和抛光磁体和衔铁接触面
B使磁体和衔铁接触面对位准确
C使衔铁与根帽结合时与水平面平行
D使衔铁与磁体的接触面完全暴露
E使衔铁与磁体的接触面紧密接触