砷化镓膜材料主要通过外延技术制备。主要外延方法有（）外延、液相外延和（）外延
下列关于集成电路的叙述中错误的是（）
A、集成电路是将大量晶体管、电阻及互连线等制作在尺寸很小的半导体单晶片上
B、现代集成电路使用的半导体材料通常是硅或砷化镓
C、集成电路根据它所包含的晶体管数目可分为小规模、中规模、大规模、超大规模和极大规模集成电路
D、集成电路按用途可分为通用和专用两大类。微处理器和存储器芯片都属于专用集成电路
硅片减薄腐蚀液为氢氟酸和硝酸系腐蚀液。砷化镓片用()系、氢氧化氨系蚀腐蚀液。
目前，集成电路晶体管普遍采用硅材料制造，当硅材料尺寸小于10纳米时，用它制造出的晶体管稳定性变差。而2010年获得诺贝尔物理学奖的______即使被切成1纳米宽的元件，导电性也很好。因此，它被普遍认为会最终替代硅，从而引发电子工业革命。
A．热敏材料
B．砷化镓材料
C．光敏材料
D．石墨烯材料
下面关于集成电路(IC)的叙述中正确的是()。
A.集成电路是20世纪60年代出现的
B.按用途可分为通用和专用两大类，微处理器和存储器芯片都属于专用集成电路
C.现代微电子技术已经用砷化镓取代了硅
D.集成电路的工作速度与组成逻辑门电路的晶体管尺寸有密切关系